半导体缺陷检测与分析
CytoViva 将其专利的高光谱成像和分析技术与反射光学显微技术相结合，实现了快速、高空间分辨率和高光谱分辨率的半导体晶圆分析。分析内容包括纳米级缺陷和污染物检测，以及对硅、蓝宝石和相关晶圆表面镀层的分析。
CytoViva 显微系统可选配反射式明视野和暗视野光学器件，放大倍率高达 100 倍，并可以使用从卤素灯到激光等不同光源。高光谱图像的每个像素中包含完整的 VNIR 400nm – 1,000nm 或 SWIR 900nm – 1,700nm 光谱数据，像素大小（按需要）从 100 nm 至 50 um 不等。
该系统可对光伏硅晶片和传统电路晶片进行分析，还支持用于 LED 相关应用场景的 GaN 分层蓝宝石基底。
下方的链接提供了一些详细的应用说明，介绍了 CytoViva 的高光谱显微技术在晶圆缺陷和污染分析方面的应用情况：